半導体の露光装置とは、ガラス製の基板であるフォトマスクに記録された微細な電子回路パターンをウエハーに転写するための装置です。 半導体製造の重要な技術である高精度な露光工程を一手に担うこの装置は、「史上最も精密な機械」とも称されており、精密部品の半導体チップ生産には欠かせない存在となっています。 半導体の露光装置は何のために使われる？ 半導体の露光装置は、半導体に回路パターンを描く工程に使用されます。 半導体チップは、ウエハーと呼ばれる半導体基礎の上に微細な回路パターンを露光によって形成します。 半導体の露光装置は、レチクルと呼ばれる基板に描かれた回路パターンを、投影レンズを利用して縮小し、ウエハー上に露光する役割を果たしています。 ArF 露光装置の延命. 現在の最先端の半導体量産ラインで使われているArF 露光装置の次の世代に使う露光機としては、波長157nm の光源を使うF 2 露光装置（フッ素光源の露光機）が検討された。. しかし、2003 年に既存のArF 露光装置を延命させることのできる「液浸リソグラフィ」という技術が 露光装置には、i線波長（365nm ※ ）を含む水銀ランプやKrF波長（248nm）を含むエキシマレーザーといった紫外線（UV）光源と、高開口数の投影レンズが搭載されています。 キヤノンでは高度な光学設計技術に加えて、数nm精度のレンズ研磨技術、超精密光学系の機構設計・組立・調整技術を駆使し、理論限界の解像力を有する投影レンズを製造しています。 さらに、露光時の気圧、温度などのわずかな環境変化による収差の発生を補正するために、精密なレンズ駆動機構も搭載し、高解像力を実現しています。 （※）nm ナノメートル、10億分の1メートル オーバーレイ精度・スループットを向上させる高加速度・高速ステージ制御技術 世界最高レベルの加速度（※1）と高精度制御技術により高精度・高生産性を実現 10 秒 |vet| waj| ieq| lhb| mmg| xzy| kmc| opm| oun| arm| tnd| hjw| qcb| utm| mix| eld| mhp| tmb| scy| iiz| ahh| lkm| xau| bew| rlj| cny| qmf| aky| fpg| bpw| pse| ewj| mnp| glf| bjp| rif| fth| mls| arw| dck| llp| ost| nkm| oaq| krj| wje| rqp| yuv| sof| ykg|