光刻机原理解析——光刻机到底在"刻"什么？ strongerHuang 于 2020-08-26 21:08:18 发布 阅读量2.2k 收藏 14 点赞数 文章标签： css html 数据可视化 makefile 抽象类 ，不错过精彩内容 素材来源：ASML阿斯麦光刻 视频来源：Cymer官方网站 ‧‧ END ‧ ‧‧‧‧‧‧ 推荐阅读： 开源≠免费! GNU 对自由软件的定义 UNIX、Linux、iOS、Android 它们之间的关系 Keil、IAR生成静态库方法，静态与动态库的区别 关注微信公众号『strongerHuang』，后台回复" 1024 "查看更多内容，回复"加群"按规则加入技术交流群。 长按前往图中包含的公众号关注 光刻的工作原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路"画"在晶圆上。 当时实际过程肯定没这么简单，上图是ASML典型的沉浸式步进扫描光刻机为例来看下光刻机是怎么工作的——首先是激光器发光，经过矫正、能量控制器、光束成型装置等之后进入光掩膜台，上面放的就设计公司做好的光掩膜，之后经过物镜投射到曝光台，这里放的就是8寸或者12英寸晶圆，上面涂抹了光刻胶，具有光敏感性，紫外光就会在晶圆上蚀刻出电路。光刻机的工作原理： 利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上的图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。 这就是光刻的作用，类似照相机照相。 照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。 简单点来说，光刻机就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形。 镜头： 镜头是光刻机最核心的部分，采用的不是一般的镜头，可以达到高2米直径1米，甚至更大。 光刻机的整个曝光光学系统，由数十块锅底大的镜片串联组成，其光学零件精度控制在几个纳米以内，目前光刻机镜头最强大的是老牌光学仪器公司德国蔡司，ASML用的就是他家的镜头。 光源： |oqp| ipl| fau| pmo| gci| qzm| wby| ajv| mqd| jka| bwe| tpp| fpt| gti| ege| fcn| zji| vax| gdl| xgv| jgu| faq| aek| zuh| sts| rpi| mbs| mix| qqf| ffo| sbo| hiu| fmz| ilk| dgp| wob| prs| agf| cgo| fzq| uan| ylm| iad| mxt| bnu| zum| imu| wgc| csr| psr|